氣體的分布狀況對于平板基片鍍膜來說是極其重要的，通過機械結構設計，使氣體密度的變化率在濺射沉積區(qū)域內的盡量小。

而在區(qū)域外，使系統(tǒng)的流導盡量的大，以提高氣體的利用率和抽氣系統(tǒng)的效率。

控制氣體分布的機械部件或結構包括布氣系統(tǒng)、真空室的結構、抽氣系統(tǒng)等三個部分。